在陶瓷、玻璃、蓝宝石等材质的衬底上,采用半导体级别PVD物理沉积、无氰化沉积和干法刻蚀工艺,真正实现了绿色环保的制程工艺
- 采用绿色环保半导体制程工艺实现基材金属化工艺
- 在陶瓷、玻璃、蓝宝石等材质的衬底上,采用半导体级别PVD物理沉积、无氰化沉积和干法刻蚀工艺,真正实现了绿色环保的制程工艺
- 正背面金属化、高频微带电路图形
- 搭配金属膜系:Ti/Pt/Au,TiW/Au
- 适用于金锡焊、铅锡焊等主流封装
- 金属线距最小1um,精度最小+-1um
- 工作温度环境:-55℃~+125℃
- 可用于传输10GHz,40GHz,100GHz以上的高频信号,同时能应用于100Gb/s,400Gb/s,800Gb/s光通信系统